Flash存储技术是一种非易失性存储器,广泛应用于各种电子设备中,其核心在于利用浮栅场效应管(Floating Gate FET)来存储数据,这种存储单元通过在浮置栅极中注入或移除电荷来表示数据的“0”和“1”,以下是对flash的存储原理的详细介绍:
1、基本存储单元:
Flash的基本存储单元是浮栅场效应管,它包含源极、漏极、控制栅极和浮置栅极。
浮置栅极位于控制栅极和通道之间,由氮化物夹在两层二氧化硅材料之间构成,中间的氮化物就是可以存储电荷的电荷势阱。
2、数据存储机制:
向浮置栅极注入电荷表示写入“0”,没有注入电荷则表示“1”。
读取数据时,通过检测源极和漏极之间的导电状态来判断存储单元中的数据是“0”还是“1”。
3、写入与擦除操作:
写入数据前,必须先将原来的数据擦除,即将浮栅中的电荷放掉。
NAND型闪存的擦和写均基于F-N隧道效应(Fowler Nordheim tunneling),电流穿过浮置栅极与硅基层之间的氧化物绝缘层,对浮置栅极进行充电(写数据)或放电(擦除数据)。
NOR型闪存在写入数据时采用热电子注入方式,擦除数据时仍基于隧道效应。
4、存储颗粒分类:
根据单位存储单元下数据存储密度的不同,Flash存储颗粒可分为SLC(Single-Level Cell)、MLC(Multi-Level Cell)、TLC(Trinary-Level Cell)和QLC(Quad-Level Cell)。
SLC每个存储单元存储1bit数据,MLC存储2bit数据,TLC存储3bit数据,而QLC则能存储4bit数据。
5、Flash存储类型:
Flash主要分为NOR Flash和NAND Flash两种类型。
NOR Flash适用于代码存储,具有较快的读取速度和较高的可靠性;NAND Flash则适用于数据存储,具有更高的存储密度和更低的成本。
6、连接和编址方式:
NAND型闪存各存储单元之间是串联的,为了对全部的存储单元有效管理,必须对存储单元进行统一编址。
NAND的全部存储单元分为若干个块,每个块又分为若干个页,每个页包含一定数量的字节。
7、差异对比:
NAND Flash在写数据和擦除大量数据时比NOR Flash快得多,因为NAND支持整块操作。
NOR Flash的读取速度较快,且接口简单易用;而NAND Flash则具有较高的存储密度和较低的成本。
NOR Flash的擦写次数相对较少(约10万次),但可靠性较高;NAND Flash的擦写次数较多(可达100万次),但可靠性相对较低,容易出现坏块。
8、应用领域:
NAND Flash主要用于大容量数据存储,如U盘、SSD等;NOR Flash则多用于代码存储和执行,如嵌入式系统中的程序存储。
9、发展趋势:
随着科技的进步,Flash存储技术不断向更高密度、更快速度、更长寿命和更低成本的方向发展,从2D平面结构向3D立体堆叠结构的转变提高了存储密度。
以下是关于FLASH的两个常见问题及其解答:
问题1:NOR Flash和NAND Flash在应用场景上有何不同?
答:NOR Flash由于其快速的随机读取能力和较高的可靠性,通常用于存储需要频繁读取的代码,如固件、引导加载程序等,而NAND Flash则因其高密度和低成本特性,更适用于大容量数据存储,如固态硬盘(SSD)、USB闪存盘等。
问题2:为什么NAND Flash在擦写过程中会出现坏块?
答:NAND Flash在擦写过程中,由于电荷的注入和隧穿效应,可能会导致部分存储单元的浮置栅极损坏或电荷泄漏,从而形成坏块,这些坏块无法正常存储和读取数据,因此需要通过ECC/EDC等算法来进行管理和修复,随着擦写次数的增加,NAND Flash的坏块数量也会逐渐增加,影响其整体性能和寿命。
FLASH作为一种重要的非易失性存储器,在现代电子设备中扮演着举足轻重的角色,其独特的存储原理和广泛的应用领域使得FLASH技术不断发展和完善,为人们的数字生活带来了极大的便利。
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